微弧氧化：通過電解液與相應電參數的組合，在鋁、鎂、钛等金屬及其合金表面依靠弧光放電産生的瞬時高溫高壓作用，原位生長出以基體金屬氧化物爲主的陶瓷膜層。

微弧複合處理：微弧氧化陶瓷層的多孔結構, 易與多種材料結合形成複合膜層，提供多元化的功能，展現出陶瓷層作爲“過渡處理層”的優越性。微弧複合是将微弧氧化及滿足産品在不同環境處理下而選定的後續塗裝複合而成一種短流程低污染排放的環衛型表面處理技術。

微弧離子鍍: 将真空腔内的伏安特性置于由穩态的輝光放電向穩态的弧光放電過渡時，氣體放電雙峰曲線上客觀存在的非穩态正反歐姆轉變區間，利用因靶面放電而産生的熱積累至局部微熔的延緩間隔，實現靶面鍍料粒子經濺射的級聯碰撞脫靶機制演變爲熱發射脫靶（未達到熔融噴射程度）機制，從原理上既提高了脫靶粒子的離化率，又避免了“微熔滴”噴射的“高溫效應”。 微弧離子鍍的開發是結合了濺射鍍膜與多弧鍍膜兩者鍍料粒子濺射出與沉積成膜上的優點，同時也避免了兩者在成膜過程中的不足之處，使成膜質量與效率得以大幅提高。